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首頁  -  技術文章  -  勻膠機不是簡單的均勻涂抹的機器

勻膠機不是簡單的均勻涂抹的機器

發表時間:2021-12-02      點擊次數:806

勻膠機是一種常見用于材料薄膜制備工藝的實驗室設備,它的原理相對比較簡單,利用電機高速旋轉時所產生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面,可以“讓膠液均勻涂敷的機器”。

勻膠機有很多稱謂,勻膠臺,旋轉涂膜機,旋轉涂層機或者旋轉涂敷機等等,它的英文是 Spin Coater(旋轉涂膜的意思)。勻膠機既然是科研開發上制備薄膜材料的方法之一,使用者對于該設備期待就在于其能夠“均勻”地涂敷試液或者膠液。


通常我們會用均一性和可重復性來衡量薄膜材料制備的好壞。國內外對于這種勻膠旋涂設備的發展呈現出很大的差距。中國先開展勻膠機研制的單位是中科院微電子所,推出的KW-4A型號的勻膠機,具有低速起步和高速旋轉兩個單位。

 CIF生產的勻膠機,  采用閉環控制伺服電機,數字式增速信號反饋,速勻準確,壽命長,保證勻膠的均一性。5寸全彩觸摸屏,智能程序化可編程操控顯示,標配10個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設置),可選配10個可編程程序,每個程序下可設置10個勻膠梯度階段,z100個階段。內置水平校準裝置,保證旋涂均勻,可對大小不同規格的基片進行旋涂。多重安全保護:樣品托盤卡口和樣品托盤之間三重密封安全保護,有效降低電機進膠的風險。一機兩用,根據


不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂方式。不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體,旋涂腔體采用PTFE材料。旋涂托盤采用聚丙烯(NPP-H)材料,耐酸堿防腐蝕,保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。上下雙腔體設計,較大的上腔體便于擦拭去除膠液,錐形下腔體結構設計便于收集膠液,并帶廢膠收集裝置。可選氮氣吹干、氮氣保護,自動滴膠或簡易滴膠裝置,提供多種的操作便利性。適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs,GaN,InP 等多種材料。


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